Солнцезащитная база под макияж с экстрактом хлопка Cotton Block Choux Sun Base надежно оберегает клетки эпидермиса от вредного воздействия ультрафиолета. Благодаря воздушной консистенции крем равномерно распределяется по коже, быстро впитывается, не оставляя белых разводов, ощущения липкости и непроницаемой плёнки. База разглаживает рельеф кожи, прекрасно сцепляется с любым тональным средством, обеспечивая макияжу стойкость на весь день. Экстракт хлопка нормализует продукцию себума, предотвращая возникновение жирного блеска. Также экстракт хлопка восстанавливает гидролипидный баланс эпидермиса, препятствует испарению влаги с поверхности кожи, смягчает ее и оказывает успокаивающее действие.
Формула средства гипоаллергенна и включает в себя только минеральные фильтры, безопасные как для кожи, так и для окружающей среды. Средство, не провоцирует возникновение раздражений и может применяться даже обладателями чувствительной кожи.
Альпийский эдельвейс обладает высоким антиоксидантным потенциалом. Он защищает клетки эпидермиса от окисления, нейтрализуя свободные радикалы. Эдельвейс к тому же создаёт дополнительную защиту от вредного воздействия ультрафиолета. Активные соединения в составе растения повышают жизнестойкость клеток.
Способ применения: за 20-30 минут до выхода на улице нанести необходимое количество средства на чистую кожу, аккуратно распределить по поверхности лица, не пропуская ни одного участка. При необходимости нанести тональную основу. Обновлять на солнце каждые 2-3 часа.
Только авторизованные пользователи могут оставлять вопросы о товаре